Selfie för arbetsplatsförlagt lärande är ett gratis webbverktyg för yrkesskolor och företag. Det hjälper dem att använda digital teknik för undervisning, lärande och praktik på bästa sätt.

Selfie för arbetsplatsförlagt lärande hjälper skolor och företag att anpassa sig till den digitala tidsåldern. Det är en särskild modul av Selfieverktyget som är anpassad till kraven för arbetsplatsförlagt lärande.

Verktyget stöder därför den digitala omställningen som är en av EU-kommissionens viktigaste politiska prioriteringar.

Använd Selfie på din yrkesskola

Om du jobbar på en yrkesskola och vill använda Selfie för arbetsplatsförlagt lärande ska du

• logga in i Selfie (först måste du registrera skolan)
• skapa en ny självskattningsövning
• välja utbildningsnivån ”gymnasium, yrkesinriktad utbildning”
• kryssa i rutan för ”Kommer företag att delta i denna undersökning?”

Resurser

Här hittar du resultat från pilotprojekt, landsrapporter och bakgrundsmaterial om Selfie för arbetsplatsförlagt lärande.

Ladda ner infografik, rapporter och annat material

Bakgrund och utveckling

Selfie för arbetsplatsförlagt lärande lanserades i oktober 2021 på det andra Selfieforumet.

Läs mer om lanseringen

Projektet inleddes 2018 med en genomförbarhetsstudie som visade positiva resultat. I januari 2020 började själva utvecklingsarbetet, där intressenter och slutanvändare fick delta för att se till att verktyget motsvarar yrkesskolornas och arbetsgivarnas behov.

Omfattande pilotförsök

Workshoppar och tester var också en viktig del av utvecklingen. Selfie-teamet höll en internationell expertworkshop i juni 2020 och mellan september och december 2020 testades verktyget i nio europeiska länder.

Sammanlagt deltog omkring 35 000 personer från cirka 150 yrkesskolor och 250 företag i Frankrike, Polen, Rumänien, Tyskland, Ungern, Georgien, Montenegro, Serbien och Turkiet i pilotförsöken. Se pilotförsökens resultat

Det europeiska forumet för yrkesutbildning och Europeiska yrkesutbildningsstiftelsen bidrog med ovärderligt stöd under hela arbetet.